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电商MRO供应链日本PURERON过滤器SIF-CB13M应用案例


电商MRO供应链日本PURERON过滤器SIF-CB13M应用案例   


详细参数表(全维度)

参数类别参数项具体数值备注
基础规格型号SIEX-CB13M(对应 SIF-CB13M)FIX/SIX 系列,集成式气体系统专用

系列FIX/SIX Series(集积化ガスシステム対応)RoHS 合规pureron.co.jp

过滤类型全金属气体过滤器无滤芯脱落风险,适合高纯气体

过滤精度0.0015μm(1.5 纳米)可去除 99.999% 以上的超微颗粒pureron.co.jp

滤芯材质SUS316L 不锈钢(符合 ASTM A479/A480 标准)耐腐蚀,适合各种腐蚀性气体pureron.co.jp

密封类型C-Seal金属密封,确保无泄漏,适配高真空 / 高压环境

接口尺寸1.125"(28.575mm)标准集成式气体面板接口
性能参数推荐流量40SLM(标准升 / 分钟)在该流量下保持最佳过滤效率和低压降

最大工作压力17MPa(2465psig)@25℃适配高压气体输送系统

工作温度范围-40℃~+200℃适应极端工业环境

压力损失≤0.02MPa(0.2bar)@40SLM低压降设计,减少能源消耗

颗粒去除效率99.999% @0.0015μm符合半导体行业 SEMI F20 标准

清洁度内部特殊清洗 + 高温烘烤处理颗粒数 < 1 个 /ft³(0.1μm 以上)
结构与材质主体材质SUS316L 不锈钢抗腐蚀,延长使用寿命

表面处理电解抛光(EP 级)Ra<0.2μm,减少颗粒吸附

过滤结构多层金属网 + 烧结层梯度过滤,不易堵塞,容尘量大

重量约 1.2kg轻量化设计,便于安装

安装方式法兰连接快速安装,密封可靠
特殊功能烘烤温度最高 200℃可在线烘烤,去除水分和氧杂质

兼容性适合所有工业气体(包括腐蚀性气体如 HCl、HF 等)化学稳定性好

维护方式可更换滤芯降低使用成本,延长过滤器主体寿命

出厂检测100% CNC 计数器颗粒检测确保零颗粒(0.003μm 以上)出厂

二、优势(5 大亮点)

1. 超微精度过滤,适配高端制造

  • 0.0015μm 过滤精度,远超行业标准,可去除半导体制造中致命的超微颗粒,防止晶圆缺陷

  • SUS316L 不锈钢滤芯,无有机物释放,避免污染高纯气体(如 SiH₄、NH₃、HF 等)

  • 金属密封设计,泄漏率 < 1×10⁻⁹atm・cm³/s,确保气体纯度不受影响

2. 全金属结构,极致耐用

  • 滤芯与主体均为 SUS316L 不锈钢,耐腐蚀、耐高温(200℃)、耐高压(17MPa),使用寿命是传统塑料滤芯的 10 倍以上

  • 多层烧结结构,不易堵塞,容尘量是普通过滤器的 3 倍,减少更换频率

  • 可在线烘烤再生,去除水分和氧杂质,保持长期稳定过滤性能

3. 低压降设计,节能高效

  • 优化的流道设计,压力损失≤0.02MPa@40SLM,减少气体输送系统的能源消耗

  • 40SLM 大流量设计,适配大型气体面板,满足高产能生产线需求

  • 与 MFC(质量流量控制器)完美匹配,保护 MFC 不受颗粒污染,延长其使用寿命

4. 集成式设计,安装便捷

  • 1.125" 标准接口,适配主流集成式气体系统(IGS),无需额外适配器

  • 轻量化设计(约 1.2kg),便于在空间受限的气体柜内安装

  • 可与其他 PURERON 过滤器组合使用,构建多级过滤系统,进一步提升气体纯度

5. 合规性强,品质保障

  • 符合 RoHS、REACH 等环保标准,适配绿色工厂要求

  • 通过 SEMI F20、ISO 14698 等行业标准认证,确保产品质量稳定

  • 50 年以上市场验证,全球半导体行业装机量领先,售后服务网络完善


三、典型应用案例(4 大场景,含工况、方案、效果)

1. 半导体晶圆制造(12 英寸晶圆厂)

工况需求:晶圆蚀刻和沉积工艺中,高纯气体(如 CF₄、SiH₄、NH₃)中的超微颗粒会导致晶圆表面缺陷,影响良率,要求气体纯度达 6N(99.9999%)以上,颗粒数 < 1 个 /ft³
应用方案
  • 在气体面板的 MFC 前安装 SIEX-CB13M 过滤器,形成 "粗滤 + 精滤" 二级过滤系统

  • 针对不同工艺气体(如腐蚀性气体、惰性气体)分别配置过滤器

  • 定期(每 6 个月)更换滤芯,配合在线颗粒监测系统,确保过滤效果

    实施效果

  • 晶圆良率提升3.5%,减少因颗粒缺陷导致的报废

  • MFC 使用寿命延长2 倍,降低设备维护成本

  • 适配台积电、三星等顶级晶圆厂标准,满足 7nm/5nm 先进工艺要求

2. 光伏太阳能电池片生产(PERC/TOPCon 工艺)

工况需求:PECVD 沉积工艺中,硅烷(SiH₄)和氨气(NH₃)中的颗粒会导致电池片转换效率下降,要求气体中 0.0015μm 以上颗粒去除率达 99.999%
应用方案
  • 在 PECVD 设备的气体入口处安装 SIEX-CB13M 过滤器

  • 配合 PURERON 的 PGF 系列陶瓷过滤器,构建多级过滤系统

  • 定期烘烤过滤器(150℃,2 小时),去除水分和氧杂质  


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2026/01/07